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    更新時間：2024-08-23

    型號：BTF-1200C-R-PECVD

    瀏覽量：154

    臺面式等離子體增強真空回轉爐BTF-1200C-R-PECVD，該設備是全自動Plasma增強PECVD系統(tǒng)，連續(xù)可控溫度以及Plasma強度等，配備真空系統(tǒng)，可以低壓條件下進行實驗，PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產生區(qū)，輝光相對均勻等效，有效的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，該設備爐管可360°旋轉，有助于粉料的燒結更均勻。
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    更新時間：2021-11-10

    型號：BTF-1200C-R-PECVD

    瀏覽量：2071

    等離子體增強回轉PECVD系統(tǒng) 主要特點 我司研制的回轉PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強度是傳統(tǒng)PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現象。
    了解詳情
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